Polvere di siliciuro di tungsteno Polvere WSi2

Il siliciuro di tungsteno (WSi2) è un composto inorganico che è un siliciuro di tungsteno. È un materiale ceramico conduttivo.

Utilizzato in microelettronica come materiale di contatto con resistività 60-80 μΩ cm; Si forma a 1000 gradi. Viene spesso utilizzato come shunt per fili in polisilicio per aumentarne la conduttività e la velocità del segnale. Lo strato di siliciuro di tungsteno può essere preparato mediante deposizione chimica da vapore, ad esempio utilizzando monosilano o diclorosilano con esafluoruro di tungsteno come gas sorgente. Il film depositato non è stechiometrico e necessita di ricottura per convertirsi in una forma stechiometrica più conduttiva. Il siliciuro di tungsteno è una prima alternativa al film di tungsteno. Il siliciuro di tungsteno viene utilizzato anche come strato barriera tra il silicio e altri metalli come il tungsteno.

Il siliciuro di tungsteno ha anche applicazioni nei sistemi microelettromeccanici ed è utilizzato principalmente come film sottile per produrre circuiti in microscala. A tale scopo, i film di siliciuro di tungsteno possono essere incisi al plasma utilizzando, ad esempio, trifluoruro di azoto gassoso.

WSi2 si comporta bene nei rivestimenti antiossidanti. In particolare, simile al disiliciuro di molibdeno (MoSi2), l'elevata emissività del disiliciuro di tungsteno rende questo materiale attraente per il raffreddamento radiativo ad alta temperatura e influisce sulla protezione termica.